PP 大庆石化聚丙烯T38F
缠绕膜，即PE拉伸膜，如图1所示，是一种具有较高拉伸强度、抗撕裂强度，又具有一定自粘性的透明包装材料，它将产品包装成一个整体，防止其在运输过程中发生散落坍塌。因其包裹后的物体美观大方，而且能防潮、防尘、防破坏，缠绕膜受到各行各业的欢迎，比如建材、汽车配件、电线电缆、化工、金属制品等等。缠绕膜分为手工缠绕膜和机用缠绕膜，手工缠绕膜宽度一般为300mm、350mm、450mm、500mm，机用缠绕膜宽度一般为500mm，厚度在15um-50um之间。行业中将厚度单位统称为丝，常用厚度为2.2~2.3丝(该厚度一般统称为2丝)，另外还有严格要求2丝，以及1.8~2丝。厚度越薄，价格越高。
现有的防伪技术里，普遍以印刷或者打印的形式制作生产，传统类型的标签，尽管它具有独特的图文，容易识别，但它每个标签特征都一样，不具备唯一性，看似复杂的模版一旦被复制，即可批量仿造出同样的标签。刮涂层查号的标签可以被批量套号。
在其薄膜中发现畴壁导电的材料，在传统绝缘材料中发现的导电通道，为铁电材料研究带来了丰富的物理。在含有马赛克状多畴结构的bfo薄膜中，往往是先通过探针极化构造长度较长的畴壁然后测得畴壁导电，而在自发生长的条带畴结构的薄膜中直接测得畴壁导电增强，这对铁电薄膜制备、表征提出了新要求。
在衬底上制造薄膜一般需要分子流、原子流或离子流流向衬底。这些流束在衬底表面的合适位置凝结形成一固体膜，通常这些沉积的方法称为物理气相沉积（pvd）。例如包括脉冲激光沉积（pld）和脉冲电沉积（ped）。来自激光或电子束的高能量密度脉冲可以消融靶材（将一定量的固体靶材转变为等离子体）。该等离子体以等离子羽流的形式向外扩展至目标物，该等离子羽流具有目标化合物的组合物。
ped技术已被用来制造不同类型的薄膜，包括金属、半导体和高质量的介质材料涂层。尽管全世界的实验室都有成功的沉积实验，但是没有成功的脉冲电子束沉积薄膜的工业应用。基于csd的电子束源在工业应用失败的主要原因是因为介质的管状元件的生命周期短（一般小于射击），从射击到射击的脉冲重复性低，和大面积沉积的可扩展性问题。
一种新的薄膜沉积装置和方法被提出。沉积设备的操作是基于高电压（1-60kv）大电流（0.1-10ka）电脉冲的应用，由脉冲电源组到虚拟阴极组产生。虚拟阴极组装置从气体容器中提供的气体中产生初始等离子体。该初始等离子体，被注入在靶材的前面，形成一个虚拟等离子体阴极。该虚拟阴极等离子体获得负电位偏置，该负电位偏置由脉冲电源所提供，从而导致电子束的产生。电子束的形成发生在薄鞘之间，该薄鞘形成在作为虚拟阴极的等离子体边界和作为阳极的靶材之间。由于等离子体边界和靶材之间的距离小使得空间电荷限制是高的，这使得高能量和高电流脉冲的电子束产生，该电子束足够将固体靶消融。
虚拟等离子体阴极在靶材前面短暂出现，通过电子束将靶材消融，然后消失并允许消融的靶材向衬底流去，在衬底那里凝结形成薄膜。靶材消融后以等离子体羽流的形式，从位于具有虚拟阴极等离子体部分的靶材表面向外扩散流出。这样，由于限制电子束源时间的因素-由靶材消融带来的阴极污染运是可避免的，因为阴极是一个虚拟的阴极，由等离子体形成，它不能像常规的固体材料阴极一样被污染。
本发明的方面提供了一种薄膜沉积装置，包括，一空心阴极、一衬底托架和一靶材托架，所述衬底托架和所述靶材托架相对设置在所述空心阴极两侧，一等离子体供应元件，用于在所述空心阴极的端部靠近所述靶材托架时向所述空心阴极内部提供等离子体，和一动力单元，与所述空心阴极连接，用于给所述空心阴极提供一高压脉冲，当所述等离子体供应元件向所述空心阴极提供等离子体且所述空心阴极受到高压脉冲时，一虚拟等离子体阴极会形成，所述虚拟等离子体阴极形成一电子束，所述电子束朝向所述靶材托架上的靶材，其中被消融的靶材羽流通过空心阴极。